《Journal Of Electronic Imaging》出版語言：English，具體論文語言需根據(jù)相關(guān)征稿要求而定，可聯(lián)系雜志社或在線客服。
該雜志是一本由SPIE出版的國際知名學(xué)術(shù)期刊，創(chuàng)刊于1992年，出版語言：English，專注于工程技術(shù)-成像科學(xué)與照相技術(shù)領(lǐng)域，重點(diǎn)介紹工程技術(shù)-成像科學(xué)與照相技術(shù)的最新關(guān)鍵主題。每篇文章都是對該主題的最新、完整的總結(jié)，方便尚未深入研究的人閱讀。
《電子成像雜志》發(fā)表電子成像領(lǐng)域所有技術(shù)領(lǐng)域的同行評審論文，這些論文通常涉及電子成像系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、工程和應(yīng)用。
此外，關(guān)于《Journal Of Electronic Imaging》的數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)如下：
（1）JCR分區(qū)信息：按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)：Q4，按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)：Q4
JCR分區(qū)信息
Journal Of Electronic Imaging（2023-2024年最新版數(shù)據(jù)）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 285 / 352 |
19.2%
|
| 學(xué)科：IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 31 / 36 |
15.3%
|
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q4 | 99 / 119 |
17.2%
|
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 289 / 354 |
18.5%
|
| 學(xué)科：IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 31 / 36 |
15.28%
|
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q4 | 104 / 120 |
13.75%
|
湯森路透每年出版一本《期刊引用報(bào)告》（Journal Citation Reports，簡稱JCR）。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子（Impact Factor）等指數(shù)加以統(tǒng)計(jì)。JCR將收錄期刊分為176個(gè)不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中，主要參考當(dāng)年IF，最終每個(gè)分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。
（2）Cite Score（2024年最新版）
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：1.7
- SJR：0.264
- SNIP：0.357
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q3 | 540 / 797 |
32%
|
| 大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q3 | 167 / 224 |
25%
|
| 大類：Engineering 小類：Computer Science Applications | Q3 | 610 / 817 |
25%
|
CiteScore：該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出，指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù)，除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。
（3）在中科院分區(qū)表中，大類學(xué)科中計(jì)算機(jī)科學(xué)為：4區(qū)，小類學(xué)科中ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程技術(shù)-成像科學(xué)與照相技術(shù)：4區(qū)
中科院分區(qū)信息
電子影像雜志2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
否 | 否 |
電子影像雜志2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
否 | 否 |
電子影像雜志2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
否 | 否 |
電子影像雜志2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
否 | 否 |
電子影像雜志2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
否 | 否 |
電子影像雜志2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
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4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中，主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力，最終每個(gè)分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的，各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。
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