《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志屬于中科院分區(qū)：3區(qū)，影響因子是：2.6。
出版周期：Quarterly
OA是否開放：未開放
Gold OA文章占比：14.18%
是否預(yù)警：否
出版語言：English
中科院分區(qū)信息：
從大類學(xué)科分區(qū)來看，《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在中科院最新升級版分區(qū)表中位于物理與天體物理3區(qū)。物理與天體物理是一個廣泛的學(xué)科領(lǐng)域，涵蓋了從工程：化工的各個層面。該雜志能夠躋身3區(qū)，足以證明其在物理與天體物理領(lǐng)域內(nèi)的學(xué)術(shù)水平和影響力。
進一步細分到小類學(xué)科，該雜志則屬于ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工領(lǐng)域，位于3區(qū)。
中科院分區(qū)信息
等離子化學(xué)和等離子處理2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) |
ENGINEERING, CHEMICAL
工程：化工
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
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3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
|
否 | 否 |
等離子化學(xué)和等離子處理2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
ENGINEERING, CHEMICAL
工程：化工
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
|
2區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
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否 | 否 |
等離子化學(xué)和等離子處理2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) |
ENGINEERING, CHEMICAL
工程：化工
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
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3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
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否 | 否 |
等離子化學(xué)和等離子處理2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) |
ENGINEERING, CHEMICAL
工程：化工
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
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4區(qū)
3區(qū)
2區(qū)
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否 | 否 |
等離子化學(xué)和等離子處理2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) |
ENGINEERING, CHEMICAL
工程：化工
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
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3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
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否 | 否 |
等離子化學(xué)和等離子處理2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) |
ENGINEERING, CHEMICAL
工程：化工
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
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3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
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否 | 否 |
中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）是中國科學(xué)院文獻情報中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中，主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力，最終每個分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的，各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。
影響因子：2.6。從影響因子的角度來看，《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志也表現(xiàn)出色，該雜志影響因子在不同年份有所波動，但總體呈上升趨勢，這種趨勢不僅反映了該雜志在學(xué)術(shù)界的影響力逐漸增強，也體現(xiàn)了其在推動工程技術(shù)-工程：化工領(lǐng)域發(fā)展方面的積極作用。
從JCR分區(qū)信息的角度，
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)分為：ENGINEERING, CHEMICAL，分區(qū)：Q3，排名：91 / 170，百分位：46.8%；PHYSICS, APPLIED，分區(qū)：Q2，排名：81 / 179，百分位：55%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，分區(qū)：Q2，排名：12 / 40，百分位：71.3%；
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)分為：ENGINEERING, CHEMICAL，分區(qū)：Q2，排名：55 / 171，百分位：68.13%；PHYSICS, APPLIED，分區(qū)：Q2，排名：69 / 179，百分位：61.73%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，分區(qū)：Q2，排名：17 / 40，百分位：58.75%；
JCR分區(qū)信息
Plasma Chemistry And Plasma Processing（2023-2024年最新版數(shù)據(jù)）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q3 | 91 / 170 |
46.8%
|
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55%
|
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.3%
|
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q2 | 55 / 171 |
68.13%
|
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73%
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| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 17 / 40 |
58.75%
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湯森路透每年出版一本《期刊引用報告》（Journal Citation Reports，簡稱JCR）。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子（Impact Factor）等指數(shù)加以統(tǒng)計。JCR將收錄期刊分為176個不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中，主要參考當(dāng)年IF，最終每個分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。
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