《Plasma Chemistry And Plasma Processing》國際標(biāo)準(zhǔn)刊號?ISSN：0272-4324，電子期刊的國際標(biāo)準(zhǔn)刊號：1572-8986。

創(chuàng)刊時(shí)間：1981年

出版周期：Quarterly

出版語言：English

國際簡稱：PLASMA CHEM PLASMA P

研究方向：工程技術(shù) - 工程：化工

期刊定位與內(nèi)容：

等離子化學(xué)和等離子處理(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本由Springer US出版的學(xué)術(shù)刊物，主要報(bào)道工程技術(shù)-工程：化工相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來源期刊，該刊創(chuàng)刊于1981年，出版周期Quarterly。

《等離子化學(xué)和等離子處理》發(fā)表專家撰寫的簡短易懂的評論，重點(diǎn)介紹工程：化工的最新關(guān)鍵主題。每篇文章都是對該主題的最新、完整的總結(jié)，方便尚未深入研究的人閱讀。

本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學(xué)和等離子體處理基礎(chǔ)和應(yīng)用研究的原創(chuàng)論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎(chǔ)研究以及特定等離子體應(yīng)用的研究。此類應(yīng)用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應(yīng)用（包括等離子體醫(yī)學(xué)和農(nóng)業(yè)）、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應(yīng)用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學(xué)的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學(xué)動力學(xué)研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關(guān)的等離子體化學(xué)、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。

出版周期與發(fā)文量：

該雜志出版周期Quarterly。近年來，該期刊的年發(fā)文量約為123篇。

學(xué)術(shù)影響力：

2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級：Q2，2023年發(fā)布的影響因子為2.6，CiteScore指數(shù)5.9，SJR指數(shù)0.48。本刊非開放獲取期刊。

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