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磁控濺射制備Cu-Al合金薄膜及光吸收性能研究

王明騰; 宋娟; 高宇浩; 張力; 侯貴華; 關(guān)榮鋒; 楊子潤 鹽城工學(xué)院材料科學(xué)與工程學(xué)院; 江蘇鹽城224051; 江蘇省新型環(huán)保重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 江蘇鹽城224051
  • 表面等離子體共振
  • 納米顆粒
  • 熱處理

摘要:為使沉積態(tài)Cu-Al合金薄膜有顯著的表面等離子體共振(SPR)吸收峰,采用磁控濺射法分別制備了純Cu、純Al和Cu-Al合金薄膜,并采用X射線衍射儀、紫外-可見分光光度計(jì)對其物相和光吸收性能進(jìn)行了測試。結(jié)果表明,不連續(xù)的較薄Cu膜在沉積態(tài)下可觀察到540 nm處的吸收峰,較厚的Cu膜通過在400℃下進(jìn)行1 h熱處理可在400 nm處獲得微弱的吸收峰。沉積態(tài)的Al膜在可見光范圍內(nèi)無吸收峰,在熱處理后,不連續(xù)的較薄Al膜可獲得580 nm處的吸收峰,而較厚Al膜通過長時(shí)間熱處理后可獲得730 nm處的吸收峰。共濺射制得的較薄Cu-Al合金薄膜無須經(jīng)過熱處理,即可在可見光范圍內(nèi)獲得吸收峰。

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鹽城工學(xué)院學(xué)報(bào)·自然科學(xué)版

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