摘要：采用射頻-直流磁控濺射法,首先通過不同沉積時間在普通玻璃基底表面得到了不同厚度的碳氧化硅過渡層,然后在過渡層上沉積DLC薄膜。采用X射線衍射儀(XRD)、共焦顯微拉曼光譜儀(Raman)、場發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM)、全自動顯微硬度儀、紫外可見分光光度計,研究了不同沉積時間下碳氧化硅層對DLC薄膜的結(jié)構(gòu)組成、表面形貌、表面硬度、可見光區(qū)域內(nèi)透過率性能的影響。結(jié)果表明,隨著沉積碳氧化硅層時間的增加,DLC薄膜樣品硬度先增大后減小,可見光區(qū)平均透過率逐漸下降;當沉積過渡層時間為5 min時,DLC薄膜樣品的玻璃硬度值最大(795 HV),相比未鍍膜的玻璃基片(610 HV),硬度值增加了30. 33%,可見光區(qū)域內(nèi)平均透過率為58. 47%。